真空氣氛爐是一種高溫爐，通常用于真空燒結(jié)、真空熔煉、真空鍍膜等工藝。在真空燒結(jié)和真空熔煉中，通常需要較高的真空度，以確保材料的純度和質(zhì)量。在真空鍍膜工藝中，通常需要較低的真空度，以確保薄膜的質(zhì)量和穩(wěn)定性。
真空氣氛爐通常對于真空度有一定的要求，以確保在高溫下無氧氣、水蒸汽、灰塵等不良?xì)怏w的存在，從而保證工作環(huán)境的潔凈和材料加工的質(zhì)量。真空度可以通過壓力單位來衡量，常見的單位有帕斯卡（Pa）和毫巴（mbar）。具體的真空度要求取決于使用場景和材料處理的要求，在使用真空氣氛爐前需要查看相關(guān)規(guī)范和說明書獲取準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)。
真空氣氛爐對于真空度的要求因不同的工藝而異。一般來說，對于真空燒結(jié)和真空熔煉，要求真空度較高，通常在10-3托（1托=1Pa）以上；而對于真空鍍膜，要求真空度較低，通常在10-4托到10-5托之間。
